滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

近日美国一家旨在开发和商业化原子精密制造 (APM) 技术的公司Zyvex Labs 宣布推出了全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统“ZyvexLitho1”，其并没有采用EUV光刻技术，而是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是电子束光刻（EBL）方式，可以制造出具有0.768nm线宽（相当于2个硅原子的宽度）的芯片，精度远超EUV光刻机

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2007 年 4 月，Zyvex Corporation 重组为三个独立的公司，以确保持续专注于产品：Zyvex Performance Materials LLC、Zyvex Instruments LLC 和 Zyvex Labs LLC

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那么问题来了，为什么大部分芯片企业的业绩都在增长，而资本市场却对这个行业陷入了前所未有的悲观？01拱火：抢走那台四十年前的光刻机2021年的全球半导体大扩产，是全球芯片盛况的最后一把柴，也是它开始瓦解的序幕

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荷兰光刻机技术依赖美国吗

我们坚信，要实现量子计算的全部潜力，需要高精度的制造

我们对ZyvexLitho1感到兴奋，这是第一个提供原子级精密图案的商业化工具

”STM光刻技术的发明者、2014年费曼奖得主、伊利诺伊大学教授Joe Lyding表示：“到目前为止，Zyvex实验室的技术是最先进的，也是这种原子级精确光刻技术的唯一商业化实现

△ZyvexLitho1系统无失真成像：Zyvex Labs称ZyvexLitho1系统拥有专有的蠕变和滞后位置校正算法，支持无失真成像和原子级精确的尖端定位，以实现前所未有的光刻精度

△在200秒完成500nm跳跃后的未修正蠕变vs.蠕变修正后自适应电流反馈回路：所有商业 STM 都使用相同的比例积分 (PI) 回路来升高和降低 STM 尖端，因为它扫描以保持设定点电流

早期，Zyvex Corporation 对 APM 进行了基础研究，并经常在此过程中构建自己的工具