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光刻机要一直被“卡脖子”?华为:我偏不...长春光华微电子光刻机

国产 28 纳米光刻机，与已面世的5纳米顶尖制程，依然存在较大的差距，但部分常见的射频芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片，仍可以采用 28~90 纳米工艺

我国自主光刻机虽与外国先进水平仍有不小差距，但未来依然可期

2018 年开始，ASML 被美国施压，禁止向中国出口最先进的极紫外线光刻机（EUV），但仍可以销售上一代的深紫外线光刻机（DUV）

到了今年，美国变本加厉，要求连 DUV 也要禁售，这下 AMSL 不干了

所以，我们认为 ASML很难离开 DUV光刻机，特别是中国， DUV光刻机主要集中在中国，而 DUV光刻机也是中企最关心的问题， ASML很有可能会在 DUV上取得重大的进展，一旦 ASML退出，那么结果可想而知

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也就是说，28 nm的光刻机是可以预期的，根据 ASML的发展历程来看，28 nm到10 nm的光刻机，最快也要5年，28 nm是光刻机的关键点，而28 nm是最重要的环节，也是最好的选择，也是最好的选择，只要能将28 nm以上的技术全部攻克，那么接下来的提升就简单多了

用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录

至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般

至于国产光刻机，虽然可以用于90nm，但其实晶圆厂们用得非常少，并且主要不是用于前道，也就是晶圆制造这一块，更多是用于后道，比如封测等领域

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中国7纳米光刻机量产

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华为公布计划后，ASML怂了也许大家对此并不熟悉，尽管荷兰 ASML公司占据了日本的一部分市场，尼康、佳能等公司占据了一定的份额，但由于国内的竞争越来越激烈，美国的公司也相继破产，被兼并，最后才有了 ASML、尼康、佳能三家公司的格局

为什么华为生产不出光刻机

在2021年7月底的“英特尔加速创新：制程工艺和封装技术线上发布会”上，英特尔已宣布将在2024年量产Intel 20A工艺（相当于台积电2nm工艺），并透露其将率先获得业界第一台High-NA EUV光刻机

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温宁克还以汽车市场为例介绍到，越来越多的汽车正在实现数字化，这将导致40nm至5nm芯片在汽车中的应用

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光刻机要一直被“卡脖子”?华为:我偏不...光刻机断供中国

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国产光刻机技术有了新进展了！老狐最近得知，华为公布了自研光刻机的部分技术专利

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由于光刻机的体型过大，ASML虽多次参展，但并未带过真实的光刻机到进博会现场

今年该公司通过元宇宙视角展现其“铁三角”业务，包括配备先进工艺控制能力的光刻机台、计算光刻、光学及电子束量测，观众可以“亲身”进入无尘室，近距离接触光刻机

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ASML发出正式警告:限制向大陆出售光刻机将重创全球芯片产业链

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于是，在封杀多年后，ASML 光刻机，重新出现在中国大陆

由上海建工四建集团承建的临港重装备 F16-01 地块，近日举行了鼎泰匠芯洁净室交付仪式，首台 ASML 光刻机搬入

该项目于 2021 年 7 月开工，建成后将成为中国首座 12 英寸车规级功率半导体自动化晶圆厂

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