而台积电、三星这两大晶圆巨头,则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术,都是做了准备,不过EUV光刻的专利相对多一点,再是NIL,最后是DSA
蔡司作为EUV光刻机的重要供应链,主要还是发务EUV,专利上占到了353件,而NIL也有38件,DSA则为0
EBL电子束光刻机,大家可能熟悉了,前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm),不过这种光刻方式速度慢,不可能用于在规模芯片制造
而纳米压印光刻技术,目前被佳能押注,目前佳能已经能够提供NIL光刻机,比如东芝,就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存,同时在NIL光刻专利中,佳能遥遥领先