虽然仍在概念阶段,但从论文上看基于该技术打造的光刻系统可以做到10nm的分辨率,0.4的数值孔径和200晶圆/小时以上的吞吐量,这样的参数甚至可以与ASML正在制造的高NA EUV光刻机一较高下了
不过要想造出这样的机器光有概念可不够,与之相关的元件与设备生态都得建立起来才行
读盘速度:速度快。 读盘声音:声音小。刻录声音也不大。 稳定性能:性能稳定。 产品包装:包装很好。
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