滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

ASML在半导体领域的地位不用多说，它家的光刻机占了全球70%+的份额，而EUV光刻机的份额更是高达100%，至今没有第二家厂商能够生产出EUV光刻机

所以目前任何需要大规模制造7nm及以下制程的晶圆厂，都得求ASML，因为一旦没有EUV光刻机，7nm及以下的芯片就制造不出来

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻（NIL）技术，而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL)，还有企业在研究直接自组装（DSA）光刻，X-射线光刻等，都是绕开EUV技术

那么，除了ASML这个大公司，我们还有其他的选择吗？其实，最近我们就有了新的选择

据悉，最近日本企业“佳能公司”正在筹备建设新工厂，并且根据放出的消息称：佳能公司旨在以更低的成本制造出更先进的下一代光刻机

很多专家预测，佳能公司的新光刻机可能是2021纳米压印光科技的升级版，能够实现14nm芯片的量产

这两年，基于光刻机的新市场规则，我国很难再从国外进口到先进的EUV光刻机，如今虽然美国对ASML公司松口了，允许ASML公司出口光刻机了，但是只是一些中低端产品，我们并不需要

芯谋研究首席分析师顾文军对《环球时报》记者表示，中国是全球芯片最大的市场和进口国，半导体设备和材料需求高速成长

中国的市场规模在持续增加，在行业下行阶段市场地位更为重要

美媒援引新美国安全中心资深研究员基尔克里斯的分析称，“美国一直在与盟国讨论这些（对华芯片）管控措施，但事实仍是实施的控制措施依旧是单方面、境外的

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比方说，此前阿斯麦的CEO就曾经公开表示，中国是永远不可能独立制造出顶级光刻机的，而他的观点，也让很多人觉得，这是对中国科研工作者的“挑衅”

当然，被“卡脖子”之后的华为，也是一直都在自主研发国产芯片，虽然总体来看，和国际顶尖芯片，还是存在一定不足，但也在不断突破，终有一天是会实现赶超的

相信未来中国一定会突破西方国家的技术封锁，成功自主研发出国际领先水平的顶级光刻机，毕竟如今中国的发展速度是非常快的，就拿航天领域的发展来说，一开始，西方国家都是不相信中国航天可以做出一番成绩的，但是如今我们却已经跻身国际航天的第一梯队

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两年后，美国德州仪器的基尔比、仙童半导体的诺伊斯，才几乎同时做出人类史上的第一块集成电路，打开了潘多拉魔盒

　　此后的二三十年，这种现实愈演愈烈，中国光刻机对外的差距，也越来越大

　　【2】蹉跎岁月　　1977年7月，邓小平邀请30位科技界代表在人民大会堂召开座谈会

　　在那场座谈会上，中国半导体灵魂人物王守武说得很直接：　　“全国共有600多家半导体生产工厂，一年生产的集成电路总量，只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一

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从“造不如买”到集中力量攻坚

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得到肯定的回复后，次年一月，无事一身轻的李在镕回到了熟悉的首尔监狱，由于天天坚持锻炼，入狱期间，李在镕甚至还减肥26斤，整个人年轻了十岁

他的底气来自于，凭借着先进光刻机，三星将实现3nm工艺量产，而这无疑，会成为自己与韩国谈条件的重要筹码

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根据阿斯麦透露的信息来，他们的新一代高数值孔径EUV光刻机的原型机将在2023年上半年制造完成，顶级芯片供应商准备最早2025年开始使用上述产品的量产机

而且新一代EUV光刻机售价要比目前的EUV光刻机翻一倍，目前EUV光刻机的售价大概在2亿美元左右，而新一代EUV光刻机售价高达4亿美元

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而当传统工艺逼近物理极限，我国在光子芯片、超导量子芯片等前沿科技领域也取得了重大突破，尤其是2023年就将落地的光子芯片，不仅运算速度能达到传统芯片的1000倍，功耗也仅为此前的万分之一，重要的是对芯片工艺没有要求，国产90nm光刻机即可满足完全满足生产线的需求