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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国激光不出光刻机,光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有

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那么,到底什么是光刻机?掌握这项技术的国家又是哪两个?为什么光刻机的制造会这么困难?接下来,就让我们一起来看看被誉为新时代“神器”的光刻机究竟有什么特殊之处

人类高科技产物——芯片在这项技术当中,最为重要的就是“光刻技术”,因为它的进步可以使摩尔定律不断延伸,让更多的“高端芯片”得以出现

中国激光不出光刻机

可能等到光刻机的制造难度再降低一些,未掌握核心技术的国家才会选择继续研究

值得一提的是,由于各国之间存在“政治博弈”,所以我国的芯片制造领域一直面对着很大的难题

正在研发国产光刻机我国光刻机研发面临挑战首先就是我国目前依旧缺乏高性能光刻机制造技术,从光刻机的发展历程就能看出,它对于工艺节点的要求越来越高

光刻机为啥这么难造?比原子弹稀有

中国激光不出光刻机,光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有

资料显示,EUV光刻机采用波长为13.5nm的激光等离子光源作为光刻曝光光源

使其波长达到193nm的1/14,几乎逼近物理学材料学以及精密制造的极限,将最小工艺节点推进至7nm

全球首台EUV光刻机原型说到这,可以看出光刻机一路的发展其实都算是在挑战“极限”,不断靠近最小工艺节点

首先EUV光刻机的总重量达到了180吨,需要几十个集装箱运输,并且即使运到了地点也要准备一年的时间等待安装调试

可以看出,光刻机绝对不是大家想象中的“小玩意儿”,它是非常庞大和复杂的

每一个零部件的调试都至关重要目前的高端光刻机的制造主要面对几个技术难题,第一就是解决“光源”的问题

安装之后下了播放器,使用起来非常顺畅,读取蓝光碟迅速,很棒,先锋电器产品是老牌的品牌 质量可靠 性价比很高 ?评

第一代为接触式光刻机,掩模会和光刻胶直接接触,使掩膜版和基片都易受到损伤

第二代是接近式光刻机,掩膜版与基片之间的间隙虽然使得这一代的寿命变得很长,但是成像质量也受到了影响分辨率明显下降

到了第三代时,就已经有了明显进步了,属于扫描投影式光刻机,在这种技术下光学曝光分辨率增强得到了突破,将光刻推向了深亚微米和百纳米级别

用了多年先锋刻录机,相信它的质量,到手发现很小巧玲珑,方便携带,试刻了一张,很好,和win7兼容的很好,自动装了驱动系统直接就可以刻录,做工也不错!

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