EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大，在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候，DUV光刻机量产自然就更没难度了
中国在光刻机技术方面的快速突破，已让ASML感到担忧，事实上此前在美国的诸多压力下，ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展，中国迟早能解决光刻机问题
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中国在光刻机方面的技术迅速突破，在于此前具有一定的基础，事实上在1990年代的时候，我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大，只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大，以及当时发展芯片产业时机未到，国产的光刻机产业链逐渐凋零，如今经过近十年时间的努力，国内光刻机产业链再度打通也就不在话下
ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展，可能成为它的竞争对手，中国制造此前的事实一再证明，只要中国取得突破的技术，那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多，在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手
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中国除了继续研发光刻机之外，还在研发无需光刻机的芯片制造工艺，这方面已有日本做出示范，日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用，证明了无需光刻机也能生产芯片，而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产，如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾
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已拿下20多项专利
对于ASML来说，中国市场对它意义重大，2021年和今年一季度中国市场为它贡献了三分之一的收入，已成为它的最大市场，如此大的市场，当然是ASML不能轻易舍弃的，事实今年一季度在诸多压力下，ASML就紧急对中国出货23台DUV光刻机，更计划在中国增加200名员工，以更好地为中国客户服务，取得更多市场
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德国徕卡光刻机
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