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光刻机_雕刻机_曝光系统

ma6 光刻机,中国芯片在底层技术上实现突破

正相反,台积电反而开始积极扩建28纳米等成熟工艺工厂

这还只是同质异构芯片刚刚被应用的开始,而异质异构芯片量产后,这种趋势将会更加明显

而ASML或许始料未及,中国在芯片技术上的发展会如此之快,因为在CFET晶体管技术上,ASML的盟友比利时微电子也将此作为未来技术发展方向,但现在复旦大学却已经实现了

中国芯在底层技术上实现突破

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ma6 光刻机

而之所以是一条捷径,是因为还没有找到其他更好的办法,这样的情况让台积电和ASML迅速崛起,台积电可以提供先进制造工艺,而ASML可以提供支撑最先进工艺的光刻

在芯片制造上,28纳米晶圆的价格是3000美元,7纳米是10000美元,5纳米是16000美元,3纳米是超20000美元,3纳米晶圆的成本是28纳米的约7倍

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读盘速度:没有具体的数据,反正挺快的。 读盘声音:很安静,试刻录了一个音乐CD盘,写入很快,放到音响上,播放没有问题。 稳定性能:用了很多个先锋了,质量信得过。旧的因为接口不同,所以买了个新的。

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ma6 光刻机,中国芯片在底层技术上实现突破

虽然先进工艺用最短的时间解决了芯片性能的问题,但是很快,新的问题也暴露了出来,那就是成本,先进工艺无论是从芯片的设计还是制造,成本都成倍的提升,这种提升的幅度,即便是全球顶尖的芯片巨头,也都难以承受,例如苹果

在芯片设计上,28纳米工艺只需要4280万美元,7纳米则需要2.486亿美元,3纳米已经需要5.811亿美元,2纳米预计需要7.248亿美元,所以一颗3纳米芯片的设计成本,就是28纳米工艺的近14倍,超40亿人民币

所以产业界开始寻找减少对先进工艺依赖方法,目前已经取得了不错的成绩,即芯粒和先进封装技术

我们现在的芯片,本质上是同质同构,也就是采用同样的材料和同一种芯片架构

而芯粒技术,就是采用不同的芯片架构,在芯片制造的后端环节,利用先进封装,再将不同架构的芯片集成到一起,形成一颗“大芯片”,所以芯粒也被叫做“小芯片”技术

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