同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
好多年不用光驱了，孩子开学了，发了很多书都带光盘教学，赶紧买了这个光驱，大牌子的先锋，专业的光驱制造商，值得信赖，读盘效果杠杠的，超级赞??
很好，轻薄，声音也小，速度不错，还没有拆开用，现在计算机配光驱的不多了，买个外置的特殊场合备用，很是不错
这款光源对应上图的位置是1994年
当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右
商品经济实惠，质量很好?，什么光盘都能读写，物流速度快，太给力了。收到了，开了用过了，很棒速度很快
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年最大的光刻机
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年
在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机
半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
很好用，读碟效果很好，以前的老光驱有的不能读的碟这个基本都能读出来，满意。买了几次，现在的刻录机价格便宜，质量不错，刻盘坏的很少，值得购买。
很好，正常使用中，这个品牌的技术过硬，用着放心，推荐大家购买。一直信赖先锋这个牌子，但现在的刻录机比以前的噪音要大，而且数据线也没有...
京东的铁粉，家里大大小小的物件都是从京东采购的。配送快，质量好！碰上活动更合适！质量好，非常满意，五星好评，诚信商家，物流很快，好评。价格优，商家服务好，非常满意，五星好评，诚信，商家，赞。十年前买过这个牌子，弹出不好使了，刻盘还能用，刻录机用的人少了，价格也便宜了，朋友家的明基光驱坏了，学校老师要用光盘，刚需使用，又入了一台。外置光驱坏了，所以买了这款内置光驱，希望能用的时间长点儿。。。 十年前用过先锋的光驱，质量不错，这回又买的是先锋光驱，还可以、运行稳定、读盘的声音也还可以。。。一直选择在京东购物，特别是京东自营店，质量有保证，享受下单后，很短时间内就能体验上产品的感觉，快递小哥服务很好，非常感谢。包装盒看舒服