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解读光刻机困局之2022(三):目前国内光刻研究的整体进度评估
物流快得惊人,头一天下午下单第二天早上就到了,神速啊,送家里了,下班后试试产品会追评。
国产光刻机设备
因此,很显然,这些资料已经充分地披露了最新的光刻机研究项目的进展,以这些资料作为背景做中国的光刻机困局的分析,是充分的、也是有时效性的
中国光刻机困局研究三要素中国光刻机困局的分析,基于以下三个要素:1,首先整理技术发展的真实资料,它包括中外论文、会议、报告、专利、新闻资讯等
当然,我们在中国的光刻机困局的讨论仅限于核心部件
在这个环节,我将尝试在EUV镜头制造、光学系统制造、光源制造等环节挖掘其瓶颈部分
只有涉及到根本层面时,我们才了解真正打破垄断所需要的软硬件条件,以及限制我国开发光刻机的关键环节
光刻机困局调查中涉及的时间动态分析图:光刻工艺的演变因此,我整理了大量各种变量的时间演变曲线,并且标注其中的关键节点,对于重要的关键节点,做详细的人、物、力的调查,并以此来评估、矫正对技术发展趋势的判断
使用了一下,外形挺简洁,放DVD很好用,刻录暂时没用。安装简单,读取速度快,希望可以使用期限可以久一些。京东得物流依旧是很不错
上海光机所主办一个国内核心期刊《激光与光电子学进展》,其中基本涵盖我国激光、光学的主要进展和成果介绍
《激光与光电子学进展》在2022年5月10日出版了专题《光刻技术》,几乎涵盖了我国光刻研究的全面资料
这期的封面便是DUV光学曝光系统的示意图
极紫外光刻光源论文:上海光机所和上海大学微电子学院合著极紫外光刻光源光机所和上海大学微电子学院合著《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》一文,其中不仅详细介绍了ASML和日本Gigaphoton的EUV光源进度,还介绍了上海光机所2021年前后的EUV光源的液锡系统的几篇专利
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