基础实力差,加上外国这样的“绊脚石”,让中国不得不主张自行研发
1977年,历经10年之久的中国经过自己的不懈努力,上海光学机械厂成功制造出JKG-3型接触式半自动光刻机
这也代表着此时的中国半导体产业正在紧跟外国的科技发展步伐,然而真正距离美国制造出的光刻机已经相差近二十年,并且就在同年,美国再次推出了真正的自动化光刻机
其次,就算拥有了精密的零件制造业基础,在光学系统、组装技术等知识、技术等方面也是如今光刻机技术突破的一大难题,因为这一系列的技术知识关乎着一个光刻机能否正常运行以及生产和产出
虽然中国随着近代发展,新兴产业在大量扩展,但是基层技术知识与创新理念却并未进行细耕,也就导致中国的光刻机技术出现一定的差距,这也就成为了目前中国光刻机技术想要进一步突破的关键
韩国产光刻机
中国离7nm光刻机还有多远?
因此我国的光刻机技术水平仍然需要不断努力突破,才能弥补这个差距
【中国光刻机的三次“突破”】 在1952年,我国步入计算机科研,国家也正是成立了计算机科研小组,而此时的中国相对于外国来讲,GDP仍然差距较大
直到1956年,我国正式开始重视半导体产业,并且成功研制出第一只晶体三极管,从此中国进入半导体的新纪元,然而此时相对世界上第一只三极管的诞生已经过去了长达9年的时间
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使得自身的科研进度逐步减缓,以至于中国的集成电路在科研、教育等方面出现脱节,自主研发的道路越走越窄
取而代之的是数以万千的廉价劳动力,尽管后来尽力去跟进研发,但由于自身发展原因加上大环境影响,导致曾经辉煌一时的半导体盛景已然成为“泡沫”
伴随着晶体管的研发成功,我国相关的科研进度也飞速加快,然而“天公不作美”,尽管我国努力在向着光刻机制造产业前进,但仍然困难重重
而光刻机,也被该委员会列为尖端科技产品,对于中国实施禁运,此时的中国也正式遭遇第一次“高科技卡脖”
先锋的刻录机是老牌子,到了之后用了一下,非常好。顺便吐槽一下,现在的笔记本好多都不带光驱了,配一个外置光驱很有必要。
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