对英特尔、台积电以及三星这些头部芯片制造商来说，拥有最顶尖的光刻机，他们生产出来的芯片性能要领先其他厂家一大截，如此一来，其他厂家根本就没有竞争优势
对于我国芯片制造商来说，其实也存在很大的挑战，一直以来光刻机都是制约我国芯片发展的技术瓶颈
读盘速度：读盘速度很快 读盘声音：读盘运行声音很轻不注意听几乎听不到声音 轻薄程度：宝贝很轻巧，拿在手上没多少重量 外形外观：外观大气，很喜欢
面对这种局面，想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了，不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多，但是取得的效果并不是很明显
目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机，而且目前还没有正式量产，这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的，跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大
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在2005年之前，ASML在光刻机市场只不过是一个小弟而已，当时真正的光刻机大佬是日本的佳能以及尼康，但是这两个企业卡在了157纳米技术路线上，然后他们一直在想方设法突破干式光刻机这个技术难题不过面对光刻机技术瓶颈，当时ASML另辟蹊径，采用了浸润式光刻技术，他们不再片面的追求突破157纳米路线，而是退回193纳米，结果通过采用浸润式光刻技术，他们一路开挂，远远把尼康和佳能甩在后面
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荷兰要拿光刻机换口罩
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尽管目前我国已经成为ASML最主要的消费市场之一，但ASML的最顶尖光刻机一直不愿意向我国出售，就算我们愿意出更高的价格购买，他们也不愿意卖，这是相当尴尬的一件事情
而ASML之所以不愿意向我国出口最顶尖的光刻机，这里面既有欧美的阻挠，估计ASML的股东们也不太乐意向中国大陆出口顶级光刻机，毕竟一旦中国大陆坐拥最顶尖光刻机之后，这些头部芯片制造商就会受到很大的挑战
尽管后来尼康和佳能碰得头破血流，终于攻破了157纳米干式光刻技术，但是当他们反应过来的时候，干式光刻机已经没有任何市场优势
所以从2005年之后，他们的市场份额不断被ASML吞食，目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手
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