佳能一直非常重视NIL纳米压印技术,甚至在2021年就造出了机器,被铠侠用于NAND闪存制造中,只不过目前精度还不太够,不能替代EUV光刻机
但在NIL技术上,佳能的专利最多,技术最成熟、最先进,很明显,佳能就押注这个技术了
这款自营的先锋刻录机最新升级版本,24倍的刻录速度。先锋的刻录机质量还不错,以前经常使用先锋的刻录机,机器性能稳定耐用,这次帮朋友选刻录机,正好看到京东这款升级版的刻录机,果断下单拿下。京东自营的产品送货速度很快,自营的产品质量还是有保障的,五分好评!
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而EUV光刻机,则用于7nm及以下的芯片制造,且只有ASML一家企业能够生产
考虑到ASML是集全球之力造EUV光刻机,且与上下游形成了利益同盟,所以其它厂商想在EUV光刻机上超过ASML,基本上不可能的
这种方式比传统光刻分辨率更高,加工速度也不受影响,但它对材料控制的要求特别高,目前还没有成熟的解决方案,还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院,他们都建立了自组装产线,进行相关研究,三星在DSA上申请的专利最多,也非常重视这一 技术
并且Zyvex还接受电子束光刻机订单,称只需要6个月就可以交货,很明显,这种技术也能够替代EUV光刻机,唯一的用这种方式,速度非常慢,但后期还有改进空间
第三大方案则是自组装(DSA)光刻,所以谓的自组装光刻,就是用一些化学物质,诱导光刻材料在硅片上自发组成我们需要的结构,中间不需要光刻机参与
这家的先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机 支持BDXL刻录/ BDR-S12XLB的真是太好用了,用了第一次就还想再用一次。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机 支持BDXL刻录/ BDR-S12XLB包装不错,很严密,产品样数和下单一样,送的东西也很满意。五星好评!非常好,非常好好用,舒服,评个五星,发货快一天就到了。
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三种EUV光刻机替代方案
中芯国际引入asml光刻机
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第二大方案是电子束光刻机(EBL),用高能电子束来替代极紫外线,电子对应的波长只有0.04纳米,加工精度就比EUV又高了不少
目前在这一块比较突出的是美国,前不久前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm)