不过也有人称,光刻机所指的精度,并不是指能制造芯片的精度,光刻机可以通过多次曝光,提升分辨率的,那么问题就来了,上海微电子的90nm光刻机,最多能生产多少纳米的芯片?据资料显示,目前上海微电子的90nm的光刻机,主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等
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荷兰光刻机技术卖给
“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机,因为它必不可少,同时光刻机的好坏,精度,决定了芯片的精度、良率等等
不过大家也清楚,光刻机目前全球只有4家厂商能够生产,分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子,ASML是荷兰企业,尼康、佳能是日本企业,而上海微电子是中国企业
京东的物流很快,主板的质感很好,感觉的出来做工很精良,目前还没有装机,一直用先锋刻录机很好
很好,轻薄,声音也小,速度不错,还没有拆开用,现在计算机配光驱的不多了,买个外置的特殊场合备用,很是不错
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而在精度方面,90nm肯定没问题的,同时经过两次曝光,可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
那么能不能四次曝光,五次曝光,将精度提升上去?事实上,在实际使用中,2次曝光就已经很厉害了,像ASML等的光刻机 ,大多也只是进行2次曝光
之前自己买了一个,用着特别好,单位也买了一个,存储容量大,数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择,比我之前用的那个快多了,
如上图所示,这是4大厂商的光刻机精度
其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机,只有ASML能够生产
而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机,但佳能、上海微电子却还停留在90nm,只能生产低端的光刻机
因为实践表示,3次曝光会导致良率大幅度下降,4、5次良率可能会低到没法想象,晶圆厂们的成本高到没法承受,不如买一台更高级光刻机,成本还低一些
所以,目前国内在努力的研发28nm的光刻机,这样经过两次曝光后,可以搞定14nm,至于7nm工艺,那最好还是期待EUV光刻机,用28nm的来曝光三次,良率没法看
先锋内置DⅤD刻录光驱读盘很稳定,声音还好,使用方便。可以播放4k电影,可以刻录4k电影,功能强大,强烈推荐大家购买。
好多年不用光驱了,孩子开学了,发了很多书都带光盘教学,赶紧买了这个光驱,大牌子的先锋,专业的光驱制造商,值得信赖,读盘效果杠杠的,超级赞??