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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机国内上市公司,用于2nm

众所周知,制造7nm及以下工艺芯片,需要用到EUV光刻机,而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年,就推出第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B,之后在2019年推出了NXE:3400C,2021年推出了NXE:3600D

外包装没有温謦提示封条。读盘还快,刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整安装方便,装好以后读盘速度很快,很不错的一个光驱,值得购买

不过据称,NXE:3600D型号的EUV光刻机,支持的工艺可能仅到3nm,如果要制造2nm的芯片,光刻精度还要提升,需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升,就是数值孔径的提升了, 前几代光刻机,比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的,解析度(精度)为13nm,单次构图间距为32nm到30nm

读盘速度:很快,关键是稳,8倍速,蓝光的 读盘声音:声音很轻,可以说用细微来形容 稳定性能:8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度:很轻薄,很便携,非常好 外形外观:小巧,低奢而大气 产品包装:产品的包装很好,两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空,极大地避免了震动!

而要生产2nm的芯片,数值孔径要变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案,同时单次构图间距低于30nm

这种新的EUV光刻机叫做型号,就叫做EXE:5200,目前ASML已经有了规划,预计在2024年底,或者2025年交付

光刻机国内上市公司,用于2nm

读盘速度:十分快 读盘声音:小 稳定性能:十分不错 轻薄程度:刚刚好 外形外观:美观 产品包装:很好

一小时处理220片12寸的晶圆,其产能多大?如果是苹果A16这样的芯片,一块晶圆可以切割600块左右,理论一台这样的光刻机,一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面,ASML表示,其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元(约合20亿元人民币)

这款蓝光刻录机价格太硬了,我等了一年终于降价了,赶紧入手以前有个先锋的普通刻录机,用了十几年了还在用,刻录杠杠的,没一点问题,声音特别小,性能稳定,外观大气,读写速度都很快,质量绝对硬!!

而基于0.55NA数值孔径的光刻机,光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍,其处理晶圆的能力每小时处理220片12寸晶圆左右,真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家,当然只有台积电三星、英特尔三家才有资格购买,其它的晶圆厂,能够买到0.33NA的EUV光刻机,就已经非常不错了,不要想这种0.55NA的

光刻机国内上市公司

用于2nm

一直用先锋刻录机,09年卖的刻录机现在读片困难了,只能换新了。新机很好,价格便宜,满意,性能很好,不但能够读光盘还能刻录光盘,非常的实用,孩子学校发的光盘可以使用了

读盘速度:没有具体的数据,反正挺快的。 读盘声音:很安静,试刻录了一个音乐CD盘,写入很快,放到音响上,播放没有问题。 稳定性能:用了很多个先锋了,质量信得过。旧的因为接口不同,所以买了个新的。

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