而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
那么能不能四次曝光，五次曝光，将精度提升上去？事实上，在实际使用中，2次曝光就已经很厉害了，像ASML等的光刻机 ，大多也只是进行2次曝光
做工很好，工作稳定，噪音小，读光盘快速静音，刻录光盘可靠性高。有说明书，附带安装螺丝。外包装是纸箱，无挤压变形。京东物流很快，快递小哥直接送到家。
究竟能制造多少纳米的芯片?
先锋光驱，很多年的老品牌，用过一个先锋外置光驱，这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机，已装上，读盘很好，刻录功能还末试。
颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心
“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机，因为它必不可少，同时光刻机的好坏，精度，决定了芯片的精度、良率等等
不过大家也清楚，光刻机目前全球只有4家厂商能够生产，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子，ASML是荷兰企业，尼康、佳能是日本企业，而上海微电子是中国企业
广东有没做光刻机的公司
产品收到，销售人员服务非常OK，有耐心，咨询的问题都及时帮忙解决。包括相关产品的技术问题都帮忙解决了。服务品质特优。再次感谢。
如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度
其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产
而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机
很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好
不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等
国际品牌日本先锋，光储存行业老牌巨头出品的入门级内置式DVD刻录机，兼容CD、VCD、DVD读取，CD-R、CD-RW写入，DVD-R、DVD RW双层写入，读盘性能稳定，迅速安静，后背为铝制外壳，非常坚固，还附带安装螺丝，非常高性价比的一款DVD刻录机！强烈推荐！
送货依然很快 到了就装上了 很快很静音 以前的也是先锋的 用了很多年很多次 买新的依然选择先锋
非常好用，安静，可以读取和刻录dvd-ram碟片，但我发现这款和华硕那款同价位的造型都一样，功能也一样，怀疑是同一间厂生产。
因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些
所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看