正是由于EUV光刻机的高度复杂性，至今为止仅有ASML能生产出EUV光刻机，其他国家并无法生产出EUV光刻机，而且即使是诸多供应链企业提供了高度精密的元件，ASML同样需要投入大量技术人员研发相关的技术并对这些元件进行整合才能组装出一台光刻机
中国企业公布EUV光刻机专利对ASML影响有限
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其实类似的现象在石墨烯技术上也有所体现，石墨烯技术被认为是最尖端的技术之一，由于它自身的特性，石墨烯技术用于电池上可以提升电池容量和充电速度，用于芯片上则可以大幅提升性能，因此全球都在积极研发石墨烯技术
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对于中国来说，中国如今正在力推28nm、14nm光刻机的量产，这些都的DUV光刻机，与EUV光刻机可还隔着一代，在先进的DUV光刻机尚在努力攻克的情况下，推进EUV光刻机技术并不容易
如此就可以看出，中国企业提出的一两项专利其实对于光刻机产业影响有限，它需要整个供应链共同努力才能实现光刻机的量产，而一家非光刻机产业链的企业提出的光刻机专利恐怕影响就更为有限了
中国企业早在数年前也申请了石墨烯专利，当时国内也曾大事宣传，然而数年过去，真正的石墨烯电池、石墨烯芯片仍然未见踪影，倒是石墨烯散热片、石墨烯底裤等独特的产品出现了，让这些企业借此出名，然而这对于石墨烯技术的发展并不会有太大的作用
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光刻机探测范围
国内有科技企业公布了EUV光刻机专利，热闹了几天，然而仔细想来，这专利恐怕对于中国光刻机产业影响有限，离量产依然很远，就如此前的石墨烯专利一样
EUV光刻机可谓是科技行业的皇冠，它集中了全球诸多科技的精华，ASML的EUV光刻机需要大约10万个零部件，由德国、美国、日本等诸多国家的大约5000家企业供应相关的元件，可见它的高度复杂性
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