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有许多朋友问我，国产5nm光刻机什么时候可以造出来，但是我要告诉大家，什么7nm光刻机、5nm光刻机，其实这样的说法是不准确的，在这个世界上，其实并不存在什么5nm光刻机
光刻机是什么什么是光刻机，利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
国内光刻机成功
然而，这些方式使得我们光刻机的制造难度以及制造成本急剧增加，并且已逐步逼近物理极限
所以ASML想要研发出下一代的光刻机，2030年前还是很难完成的
事实上，现在全球市场上，第四代浸没式光刻机仍然是当前半导体制造的主力设备
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为什么说
如此困难的技术要求，造成了光刻机极低的产量，光刻机技术基本十年才会大更新一次
为什么说不存在5nm的光刻机光刻机以光源的改变，共经历了5代的发展，以第四代浸没式光刻机来说，可以造28nm芯片，也可以造7nm芯片，说它是28nm光刻机也没毛病，说7nm光刻机也没错
我的外置刻录机坏了，买这个来更换，感觉还可以吧。毕竟才几十块钱。一直最喜欢京东网自营商品里面的唱片，图书，每次活动都会购买一批，可以剩下很多钱，京东网自营商品让人放心，服务一流，让人满意，没有后顾之忧，正品保证！
无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求
终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长
不过有一个坏消息就是， 美国正在向ASML施压，希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国，而这相比于EUV极紫外光刻机，所造成的影响将更为严重
