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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机,ASML的哀伤

ASML的哀伤

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其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机,绕开了ASML的EUV光刻机,并且将先进工艺提升到0.768纳米打破了ASML尚未量产第二代EUV光刻机的极限,如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺,据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm,NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成,这对于ASML同样是重大打击,日本芯片设备行业曾经领先ASML,如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业,日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

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事实已经证明了先进工艺已不仅只有EUV这个ASML的独门武器,研发先进工艺有了更多途径,ASML获取厚利的EUV光刻机因为成本昂贵而被抛弃,如果没有了EUV光刻机带来的厚利,ASML将再度回到20年前艰难求生的日子,对此它或许已经后悔不迭了吧?

面对中国台湾、美国和日本的芯片企业做出选择,ASML似乎还颇为硬气,近期宣布将在未来两年大举扩张EUV光刻机和DUV光刻机的产能,业界人士认为ASML此举可能是计划在未来对中国出售光刻机

然而由于ASML迟迟没有做出对中国销售光刻机的决定,中国已失去耐心

光刻机,ASML的哀伤

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随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽,ASML正陷入窘境,这一切都与ASML跪舔美国有关

然而如今却是美国率先背叛ASML,然后日本再施加压力台积电等无力大规模采购EUV光刻机,最终导致了ASML陷入如今的窘境,可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取

光刻机

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