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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML的哀伤,国产光刻机如何突破

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机,台积电当下的先进工艺制程产能过剩,而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺,为了增强竞争优势,台积电建立“3D Fabric”联盟,以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本

ASML的哀伤,国产光刻机如何突破

其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机,绕开了ASML的EUV光刻机,并且将先进工艺提升到0.768纳米打破了ASML尚未量产第二代EUV光刻机的极限,如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机

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国产光刻机如何突破

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随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽,ASML正陷入窘境,这一切都与ASML跪舔美国有关

然而如今却是美国率先背叛ASML,然后日本再施加压力,台积电等无力大规模采购EUV光刻机,最终导致了ASML陷入如今的窘境,可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取

ASML的哀伤

光驱的声音很小,质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好,双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。光驱的声音很小,质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好,双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。

ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满,曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机,然而如今全球市场却出现一股风潮,那就是绕开EUV光刻机,这让ASML后悔不迭

首先是ASML跪舔的美国抛弃了它

美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升了存储密度30%,而功耗降低了20%,更重要的是成本大幅下降,这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺,据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm,NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成,这对于ASML同样是重大打击,日本芯片设备行业曾经领先ASML,如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业,日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

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