哪个上市公司进口了光刻机
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中国除了继续研发光刻机之外,还在研发无需光刻机的芯片制造工艺,这方面已有日本做出示范,日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用,证明了无需光刻机也能生产芯片,而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产,如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾
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此前清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队就已研发出光刻机双工作台,由此中国成为全球第二个可以生产双工作台的国家;此外激光头、镜头等厂商也陆续生产出先进的组件,各个产业链企业的努力正逐渐完善国内的光刻机产业链
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ASML后悔莫及
光刻机之所以难,在于它是集诸多行业的精华于一身,需要诸多产业链企业共同配合才能量产,一台光刻机就有上万个元件,可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链
此时传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,意味着我国在更先进的EUV光刻机技术研发方面也已取得了重大突破
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中国在光刻机方面的技术迅速突破,在于此前具有一定的基础,事实上在1990年代的时候,我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大,只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大,以及当时发展芯片产业时机未到,国产的光刻机产业链逐渐凋零,如今经过近十年时间的努力,国内光刻机产业链再度打通也就不在话下
ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展,可能成为它的竞争对手,中国制造此前的事实一再证明,只要中国取得突破的技术,那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多,在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手