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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值商用光刻机

稳定性能:不错 读盘速度:很快 外形外观:还好 轻薄程度:适中 产品包装:精美 读盘声音:很轻

中国古语有云~~~杀鸡取卵,饮鸩止渴,就是指得这个“弯道超车”呀

我们要警惕最近有一些MCN机构艺人胡编乱造,为芯片造假翻案,并且大肆鼓吹各种“弯道超车”、“美国芯片没人要了”、“美国半导体要失业了”

这些“弯道超车”党的鼓吹、糊弄舆论,有可能导致我们国家大批投资化为泡影

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点光刻机需要投资比例到了7纳米以下,先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加:1,5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%;2,3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%;3,2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

很好,经过测试质量很好,刻录光盘很快。刻录稳定,一直很多年都在用先锋的,没有问题!非常满意

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可以的,声音小振动也小,支持的格式全面,试刻了一张CD很满意;还专门试了下DVD -RAM格式,也是支持读写的;颜值手感都很在线!就看寿命了,暂时是推荐购买的?

目前的顶尖芯片制造三强,台积电三星、英特尔,通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展,获得了大量的利润进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发,从而形成一个良性的循环

“弯道超车”党看不见这些,他们整体呼喊着“弯道超车”的“商业模式”,无非是左右国家科技投入政策,将一笔又一笔的千亿规模的投资投入到他们的“弯道超车”的游戏模式中去罢了

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比如,7纳米逻辑芯片晶圆厂的光刻机投资中:1,干式DUV光刻机的投资比例是10%,;2,浸没式DUV光刻机的投资比例大约是50,;3,数值孔径NA0.33的第一代EUV光刻机的比例是40%

当然,到了2纳米节点以下,有需要引入更加昂贵第二代高NA0.55 EUV光刻机,这意味着2纳米逻辑节点以下,晶圆厂的EUV光刻机投资总额进一步增加

在先进晶圆厂,28纳米以下的逻辑芯片制程,其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加,所以节点越先进,EUV光刻机所需数量越多

所以,28纳米以下的高级逻辑芯片,其光刻设备的投资额度,将随着逻辑节点的代差,指数级增加

读盘速度:先锋存储名不虚传啊,原来用的也是先锋的,用了有10年,终于退休了 读盘声音:声音很小,几乎听不到 稳定性能:稳定性超强,刻录CD非常快,音质也超棒 轻薄程度:外置光驱吗,都一样薄厚,没有太厚的 外形外观:外观就是比原来的降了档次,原来的机器都是金属外壳,现在的是工程PVC的,更轻一些 产品包装:产品包装结实,原封装,没动过,全新

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