台积电认为这是在「后段布线制程工序」(BEOL) 中克服电阻的最佳解决方案的一种
工序上做出如此改进后，在同等能耗和复杂度下，N2的性能比N3高10%-15%
在相同速度和单位面积晶体管平均数目下，N2的能耗比N3低25%-30%
这两款芯片都是台积电代工生产的，并且采用的是FinFET架构
这也算是为两家企业2-3nm制程的市场之战吹响了号角
为了抢在台积电之前完成3nm的研发，三星的芯片制造工艺由5nm直接上升到3nm，4nm则直接跳过
在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!
物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学
此前，英特尔在2021年7月公布的公司最新路线图会议上，提到自家也将拥有阿斯麦下一代业界最强光刻机
这台光刻机型号为High-NA量产型EUV光刻机EXE:5200，将采用不同的镜头系统，NA更大
据阿斯麦发言人称，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍，同时密度增加2.9倍
很好用，不愧是老牌子，声音小，稳定，读碟和刻录都不挑碟，真值得购买！京东客服很给力，保修期内维修时间超过15天都没反应，直接联系给换新了！感谢感谢！后续有需要还会回购的
电子束直写光刻机
2025年量产
在此之前，台积电将会使用有N3E、N3P和N3X等3纳米制程的改进版生产芯片
ASML业界最强光刻机加持除了公布2nm先进制程，台积电会议上还宣布，将在2024年，引进ASML（阿斯麦）下一代最先进的光刻机
此光刻机为「高数值孔径极紫外」（High-NA EUV）光刻机
外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。
专门买的工作用，日常家用主机很少会选装了。首先国庆假期物流同样很快，然后商品包装完好，货是全新的，这次购物很满意
作为全新的芯片制作工艺平台，N2制程的核心创新在于两点：纳米片电晶体管（Nanosheet）与背面配电线路（backside power rail）
此两点都是为了提高单位能耗中芯片性能而设计的
台积电的「全环绕栅极式纳米片电晶体管」（GAA nanosheet transistors），晶体管的通道在所有四个侧面都被栅极包围，从而减少了电能泄漏