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在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里,王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢?在面对西方技术封锁下,我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗?下次见!两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿:https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿:http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文:https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页:https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html
简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东,还没用,应该没问题。物流超快。
两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述,德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后,3年内推出了六镜头的ADT验证机
所以,蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限,而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上,几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限
还行,挺不错的,之前公司的让我弄坏了,自己买了一个赔给公司。测试了所有功能,一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快,态度也很好,好评!
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更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目:六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是,与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的,还有一个国家项目“极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关”
读盘速度:十分快 读盘声音:小 稳定性能:十分不错 轻薄程度:刚刚好 外形外观:美观 产品包装:很好
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2005年论文:美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里,我们可以清晰的看到MET工具CAD模型,它主要包括两个部分:1,从上部的同步辐射光源系统(From synchorotron)经过一个扫描单元传递至曝光装置;它相当于EUV光刻机的EUV光源系统;2,MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分:光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源
光刻机数字处理芯片
极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前,有必要回顾EUV光刻机发展历史,简而言之,在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里,有4个里程碑的阶段,包括:1,2003年之前的两镜头曝光装置(MET);2,2006年的六镜头EUV演示工具(ADT);3,2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机;4,明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机