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光刻机_雕刻机_曝光系统

刻蚀机和光刻机的区别知乎,对芯片国产化影响有多大?|硅基世界

众所周知,目前主流的光刻机主要有两种:一种是极紫外线EUV光刻机,用于7nm及以下的芯片光刻;另外一种是DUV光刻机,称之为深紫外线光刻机,主要用于10-130nm光刻机,只有ASML能生产

尽管DUV光刻机不是最先进的,但在多重曝光的情况下,最高也能做到10nm制程,由于无需获得美国出口许可证,相关产品一直正常给长江存储上海华虹厂商供货

刻蚀机和光刻机的区别知乎

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媒体分析称,如果ASML被禁对华出口DUV,其收入可能会萎缩5%-10%

那么,为什么ASML这样一家光刻机巨头企业,减少要屈服于美国的管制?根据中国科学院ICAC,背后主要有三个原因:1、美国在DUV、EUV技术方面渗入ASML

不久后,荷兰就决定ASML的出口许可证不予续期,而之前计划好向中芯国际出口的一台价值1.5亿美元的光刻机,至今也没有发货

今年5月底至6月初,美国商务部副部长唐·格雷夫斯在访问荷兰和比利时期间讨论供应链问题时提出禁止对中国企业销售DUV光刻机的要求

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刻蚀机和光刻机的区别知乎,对芯片国产化影响有多大?|硅基世界

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对芯片国产化影响多大?|硅基世界

但与此同时,限制进口光刻机利好国产替代,周三相关半导体设备股出现大涨,拓荆科技 (Piotech)、沈阳芯源 (Kingsemi)涨幅超10%,中微公司、北方华创带领沪深300大涨,科创50 (STAR50)指数则上涨了2.3%

2、美国通过ASML的上市公司身份入股

随着其在DUV时代取得成功,英特尔入股ASML叠加并购加速,2012年,英特尔、三星台积电共同买入ASML 23%的股权,获得了ASML EUV光刻机的优先供货权,成为了利益共同体

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