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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国院士:放弃幻想,中国光刻机的研发现状

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很显然,美国把光刻机当成了阻碍我国芯片产业发展的“工具

但意外的是,此次ASML却把禁令当成了“废纸”!不仅态度强硬的拒绝老美限制DUV出货的要求,而且还明确表态不会放弃中国市场

而就在近日,ASML传出重磅消息,已正式光刻交付给了鼎泰匠心等中企,并完成了相应的技术检测认证

中国院士:放弃幻想

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上海官方前不久已正式确认,90nm国产光刻机已经取得突破,而上海微电子自研的28nm浸润式光刻机也即将完成技术认证

意味着,在中低端光刻机市场,ASML将不再唯一选择

也许同类的国产光刻机设备暂时还不如ASML的好看好用,但在关键时刻进行替代却也是绰绰有余

对于正处爬坡破冰阶段的国产芯片而言,这无疑是个好消息

从短期看来,有了ASML的光刻机设备支持,国产芯片在28nm节点左右的成熟工艺领域产能和良率都能够得到有效的保障,有助于我们进一步降低对美芯的依赖

那么问题来了,ASML为何冒着与老美“撕破脸”的风险,也要大陆市场供应DUV等光刻机呢?原因有两方面

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由此不难看出,国产芯片若想摆脱“卡脖”,就必须弥补光刻机等垄断设备材料方面的短板才行

也正是因此,中科院华为国内机构企业接连“下场”,纷纷加大了在光刻机设备领域的自主研发

但光刻机的研发难度不亚于“原子D”,西方国家企业也没有谁看好我们能以一己之力造成光刻机

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中国光刻机的研发现状

就连ASML也是这么认为的,当国内科研团队荷兰ASML总部“取经”时,ASML首席工程师就泼来“冷水”,表示就算是把图纸给中国,我们也造不出来

在前不久,美国再次施压,通知ASML收紧主流需求光刻机的出货范围

简单来说,就是实施光刻机新规,在限制EUV的基础上,让ASML连DUV等其他可用于造芯的光刻设备也不再对大陆市场出货

中国院士:放弃幻想,中国光刻机的研发现状

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