从短期看来,有了ASML的光刻机设备的支持,国产芯片在28nm节点左右的成熟工艺领域,产能和良率都能够得到有效的保障,有助于我们进一步降低对美芯的依赖
那么问题来了,ASML为何冒着与老美“撕破脸”的风险,也要对大陆市场供应DUV等光刻机呢?原因有两方面
中国购买光刻机抵达上海
中国院士:放弃幻想
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就连ASML也是这么认为的,当国内科研团队赴荷兰ASML总部“取经”时,ASML首席工程师就泼来“冷水”,表示就算是把图纸给中国,我们也造不出来
在前不久,美国再次施压,通知ASML收紧主流需求光刻机的出货范围
简单来说,就是实施光刻机新规,在限制EUV的基础上,让ASML连DUV等其他可用于造芯的光刻设备也不再对大陆市场出货
光驱,哈哈已经是牙齿掉光的产品了,估计再过几年就消失了,小朋友学校里面有光盘,直接买了一个,装上,方便使用,以前还记得是很高大上的额东西,现在都已经快被淘汰的,感叹啊,先锋这个牌子估计以后也会慢慢的越来越少看得到!好评!
首先,我国拥有着全球最大的半导体消费市场,年均进口额现阶段更是突破了4000亿美元
在美国实施芯片禁令后,国内掀起了自主造芯的浪潮,对光刻机等核心设备材料的需求规模庞大
ASML作为一家以盈利为目的的公司,自然不愿意放弃这块巨大的“奶酪”
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由此不难看出,国产芯片若想摆脱“卡脖”,就必须弥补光刻机等垄断设备材料方面的短板才行
也正是因此,中科院、华为等国内机构企业接连“下场”,纷纷加大了在光刻机设备领域的自主研发
但光刻机的研发难度不亚于“原子D”,西方国家企业也没有谁看好我们能以一己之力造成光刻机
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上海官方前不久已正式确认,90nm国产光刻机已经取得突破,而上海微电子自研的28nm浸润式光刻机也即将完成技术认证
也许同类的国产光刻机设备暂时还不如ASML的好看好用,但在关键时刻进行替代却也是绰绰有余
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