国产光刻机的艰难往事小说第章收购光刻机
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因此原本构想的“引进、消化、吸收、创新”方针没有得到全面贯彻，而是一而再、再而三地引进
美国1968年达到这一标准，日本在1970年达到，而中国自1965年生产出第一块集成电路以来，经过23年，才终于达到了这一标准
而此时国内刚刚启动193nm光刻机项目，落后国际水平20多年
经过5年的艰苦追赶，终于在2007年，上海微电子宣布研制出90nm光刻机
但是由于元器件大部分来自国外，西方立刻实行了禁运，导致无法量产
2008年，“02专项”启动，继续攻关，主攻高端光刻机技术，同时鉴于之前的教训，“02专项”的重点，还有提升材料和工艺等产业配套能力
虽然基础薄弱、一切从零开始，但是在无数先辈的日夜努力之下，中国光刻机还是赢得了一个比较好的起点
真正尴尬的是，虽然有了国产光刻机，但是科研成果不代表批量化生产的能力，产业化一直停滞不前
1977年7月，人民大会堂举行的科教工作者座谈会上，半导体灵魂人物王守武直言：“全国共有600多家半导体生产工厂，其一年生产的集成电路总量，只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一
”2逆境改革开放之后，全国兴起了引进外国设备的热潮，半导体产业开始受到猛烈的外部冲击
尽管742厂的技术引进大获成功，但从整体来看，芯片产业出现了重复引进和过于分散的问题
在扩大对外开放的背景下，“造不如买”的思潮迅速蔓延全国
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面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的
今天，我们还能做到吗？1开局新中国成立之初，百废待兴，全国科研人员加起来不过5万人，难以满足建设需要
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