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半导体工业历史准确来说应该出现在冷战时期,正是冷战的背景促使了半导体工业不断向前发展,其中苏联和美国的方向还各自不同,呈现了两种截然不同的半导体工业体系发展过程

今天的半导体工业的基础得益于晶体管的发展,相比之下苏联在晶体管的制造工艺上并不比美国落后多少,可在集成电路出现后,苏联在半导体工业发展选择方向上的错误便显露了出来

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一味想将半导体工业扑在军事上的苏联当局,选择的电子管微型化路线,显然是不适用于集成电路发展的,所以在集成电路的竞赛上,美国取得了方向山的胜利,这让美国将优势保持到了今天

7nm光刻机的工艺难度并不低,这让今天很多工业基础深厚的国家都一定能够独立造出来,俄罗斯的高调宣布在不少西方国家眼里不过是一种吹牛皮罢了

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在光刻机的核心部件激光光刻仪器方面,俄罗斯曾独立开辟过氖氦激光发射器,与西方国家普遍采用的二氧化碳激光器走出了一条完全不同的道路,于是俄罗斯想要独立研制光刻机其实并不是一件难事,相反俄罗斯目前最缺的却是时间和经济发展,所以这让西方国家更加扩大了对俄罗斯的制裁力度,以压迫其放弃当前的科研计划

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抛开俄罗斯当今的工业基础不谈,在人才储备上,俄罗斯是完全有能力独自建造7nm光刻机的

得益于继承苏联时代遗留下来的严谨而优质的教育,这让俄罗斯在独立三十年来创造了不少优秀的人才,其中就有半导体物理学和激光物理学的不少大师,因而让俄罗斯有了独立研制光刻机的底气

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二、前途依旧渺茫因为光刻机是不少高科技体现的一个整体,所以当一方面有所缺失,那么对于光刻机来说都是致命的,这要求不光在光刻机的硬件上要取得成功,在其软件上也不能落后

俄罗斯因为长年电子工业落后,所以在软件发展上也非常缓慢,于是俄罗斯今后即便研制出了成功的光刻机,想要将它用于生产也是一件非常困难的事,所以俄罗斯能否在未来成功研制出7nm光刻机,这还必须打上一个疑问

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