光刻机风云再起
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光刻机是芯片制造环节的一种关键设备,在芯片的工艺制程上,也主要是由光刻机来决定的
根据芯片制造环节的不同,可以分为前道光刻机和后道光刻机,ASML的优势在于前道光刻机,而我国上海微电子的优势,则是后道光刻机
其中决定芯片制程的就是前道光刻机,所以由于ASML使用了部分老美的技术,因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约,无法出货大陆中企
很好,刻碟顺畅,外观经典,包装标准,安装简单,配件齐全,质量可靠,经久耐用。东西很不错,试用了后觉得效果很好,快递速度也很快,收到后整体满意。
不过根据最新的消息显示,老美方面计划将DUV光刻机也纳入范围当中
此前在EUV光刻机上,ASML的态度比较缓和,但这次直接表示了拒绝,可以说ASML不再遮掩,摊牌了
ASML之所以会在态度上出现这样的巨大反差,出于两个方面的因素,分为外部因素和内部因素
在内部因素上,之所以EUV光刻机,ASML遵从了修改后的芯片规则,是因为EUV光刻机的关键零部件需要美的技术,甚至这些零部件就来自美本土
但是在DUV光刻机上则不然,换句话说,ASML在DUV光刻机上实现了全球领先,与美可以说没有直接的联系
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国产光刻机打破技术封锁
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而DUV光刻机的光源,我们很早就已经实现了突破,国产替代完全没有问题
所以ASML才说,DUV光刻机已经是一项成熟的技术,言下之意,如果我不卖,那我很快就会被替代
事实上,我们国产DUV光刻机的高端部分,近年来,各个主要零部件,已经纷纷进入中试阶段,距离量产已经是一步之遥
所以对于ASML来说,让DUV光刻机也去适配修改后的芯片规则,没有任何意义,只会是让ASML丢失大量的市场和营收
要知道,目前我们不仅是全球最大的芯片市场,也是全球最大的半导体设备市场,而ASML在老美的营收已经连续三年下滑
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