同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术,然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用,于是台积电才找上ASML,而当时的ASML相当落魄,寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视,但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局,于是与台积电一拍即合
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中国的光刻机产业链发展得如此缓慢,在于早期中国考虑到先进技术可以通过在海外购买的方式实现,因此导致国产的光刻机即使生产出来也没有厂商愿意使用,毕竟国产光刻机在技术方面不如海外企业
国产光刻机龙头上海微电子成立于2002年,其实它发展光刻机的时间不并不ASML晚太多
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ASML真的慌了
两三年后,林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来,显示它的技术优势,浸润式光刻机随即成为市场主流,至2008年ASML超越了尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业,此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固
光刻机的难度相当大,在于它自身就是一个庞大的产业链,DUV光刻机的重量达到500公斤,由1万多个元件组成;EUV光刻机更是重达180吨,由10万多个元件组成,正是因为它的复杂性,所以ASML自身无法生产所有元件,需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机
光刻机等皇冠上明珠
光刻机是一个很大的产业链,国产光刻机产业链的进步自然无法完全被掩饰,估计ASML也是看到了国产光刻机产业链的快速发展,了解到纯中国产的先进光刻机即将量产,所以ASML才在今年一季度加紧出货,近期美国限制ASML给中国供货14nm以下的光刻机估计也是认识到中国已很快突破到14nm光刻机了,这是中国芯片产业链值得高兴的事情
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