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光刻机_雕刻机_曝光系统

为什么中国不能生产光刻机,垄断不再

产品收到,销售人员服务非常OK,有耐心,咨询的问题都及时帮忙解决包括相关产品的技术问题都帮忙解决了。服务品质特优。再次感谢

2008年装电脑时,就用的先锋品牌的光驱,之后又加了刻录光驱。质量一直很稳定。同学强烈推荐此品牌。质量上也真的无可挑剔。今年电脑坏了。主板不行了。用了十二年的电脑。终于可以彻底休息了。新配的主机主板没有IDE接口,为了家里的光盘不成彻底的废物,新买了SATA接口的光驱。质量一如既往的好。

收到后只用来放DVD,很好用。运行比较安静。希望耐用。用过才知道,和某品牌同价位的确实不一样,各方面都超出预期,还是非常过硬的东西,必须好评!

不错,很好,喜欢?,给力?,哈哈?果然是大牌子,质量很好,声音安静,读取刻录都很顺畅

垄断不再

那么EUV光刻机技术,能够一直卡住芯片制造企业的脖子,让大家无法拒绝么?并不是的,只怕到2nm时就要走到尽头了,无法再继续支持1.4nm、1nm这样的更高工艺的芯片了,到这些工艺时,EUV光刻机也光刻不了,要更换新技术了

为什么中国不能生产光刻机,垄断不再

之后理论上数值孔径还能够再提升,比如达到0.7等,但已经没太多必要了,非常不值得,因为成本太高了,难度太大,估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机,其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右,而INTEL也计划用它在2025年左右,量产2nm、1.8nm的芯片

说起EUV光刻机,大家都非常熟悉了,这是生产7nm及以下芯片时,必须使用的光刻机

更重要的是全球仅有ASML一家厂商能够生产,可以说ASML卡住了全球芯片制造企业的喉咙,大家要生产7nm及以下的芯片,就必须找ASML

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片,可能EUV光刻机就无法胜任了,要推出新一代技术,至于是什么技术,目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机,可以生产0.768nm的芯片,但无法大规模量产

俄罗斯研究X射线光刻机,没有光掩模板,直接光刻,据称可以用于1nm芯片,但没有样品出来

读盘速度:读取速度挺快 读盘声音:很安静 稳定性能:兼容性好,win10免驱 产品包装:完美 外形外观:大方

很好的刻录光驱,可以8倍速刻录光盘,先锋的光驱产品一直是行业领先的存在,上大学的时候就用的先锋的刻录光驱,现在已经毕业多年,这次公司要买个可以刻录的光驱,第一反应选择了先锋的光驱,很不错,京东的小哥送货上门,好好的服务。

非常好用的一款刻录机,读碟快,而且静音。马达声音很柔和,没有激烈的读盘声音。刻盘稳定。质量不错

不管是台积电,还是三星,或者intel,都不敢也不能得罪ASML,否则不卖EUV光刻机给你,就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法,到2025年时,ASML会推出全新一代的极紫外线光刻机,型号会是NXE:5200,其采用的数值孔径会达到0.55NA,数值孔径越大,精度越高

为什么中国不能生产光刻机

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