尽管目前我国已经成为ASML最主要的消费市场之一，但ASML的最顶尖光刻机一直不愿意向我国出售，就算我们愿意出更高的价格购买，他们也不愿意卖，这是相当尴尬的一件事情
而ASML之所以不愿意向我国出口最顶尖的光刻机，这里面既有欧美的阻挠，估计ASML的股东们也不太乐意向中国大陆出口顶级光刻机，毕竟一旦中国大陆坐拥最顶尖光刻机之后，这些头部芯片制造商就会受到很大的挑战
面对这种局面，想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了，不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多，但是取得的效果并不是很明显
目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机，而且目前还没有正式量产，这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的，跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大
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ASML即将推出新一代光刻机
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根据阿斯麦透露的信息来，他们的新一代高数值孔径EUV光刻机的原型机将在2023年上半年制造完成，顶级芯片供应商准备最早2025年开始使用上述产品的量产机
而且新一代EUV光刻机售价要比目前的EUV光刻机翻一倍，目前EUV光刻机的售价大概在2亿美元左右，而新一代EUV光刻机售价高达4亿美元
不过即便售价这么高昂，也并不是有钱就能够买到，按照ASML一贯的作风，一旦这些顶级光刻机量产之后，他肯定会优先供应给他的一些股东们，包括英特尔、台积电以及及三星等少数厂家，其他厂家很难订购到这些最顶尖的光刻机，如此一来芯片行业还有可能进一步拉大差距
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哪家上市公司生产光刻机材料
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在2005年之前，ASML在光刻机市场只不过是一个小弟而已，当时真正的光刻机大佬是日本的佳能以及尼康，但是这两个企业卡在了157纳米技术路线上，然后他们一直在想方设法突破干式光刻机这个技术难题不过面对光刻机技术瓶颈，当时ASML另辟蹊径，采用了浸润式光刻技术，他们不再片面的追求突破157纳米路线，而是退回193纳米，结果通过采用浸润式光刻技术，他们一路开挂，远远把尼康和佳能甩在后面
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