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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机激光成像技术,中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

挺好的,价格公道,先锋刻录机应该是刻录机里面最好的品牌了,很早之前用过一个115ch,用到老化,也只是刻录速度变慢,从来没刻飞过,后来买了别的品牌的,简直是噩梦。京东不错,不怕买到翻新货,价格还公道,不用去电脑城挨宰和被以次充好了。

非常好,但刻录只有18速?,而且噪音很大,不过其他很好。不错的用来刻录CD机用的。很安静。没有噪音。稳定可靠。

用了多年先锋刻录机,相信它的质量到手发现很小巧玲珑,方便携带,试刻了一张,很好,和win7兼容的很好,自动安装驱动系统直接就可以刻录,做工也不错!

一次很好的购物体验,服务周到,物流快速,配送也很周到,态度也很好,好评!很好看,制作工艺很精美,材质也很好!给个赞!很满意的一次购物,商家服务好,发货神速,物流也很给力,宝贝收到后非常喜欢,买得放心,用得安心

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

大品牌的外置光驱,一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定,耐用。刻录光盘很少报废,速度很快。现在新电脑都很少配置光驱,买他就很方便。

更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目:六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是,与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的,还有一个国家项目“极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关”

光刻机激光成像技术

在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里,王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢?在面对西方技术封锁下,我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗?下次见!两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿:https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿:http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文:https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学工学院ADT工具主页:https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html

品质不错,非常满意,很好用!很好用,刻录速度快,链接很稳定,非常好,很喜欢,够小,够轻,配的USB3.0的线,还带手动解锁

光系统被置于真空罩中

在这个系统里,最核心的投影光学部分(MET projection optic)主要涉及高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等关键技术,而这些也是长春光机所02专项的核心工作

光刻机激光成像技术,中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果,展示了30nm和25nm的等线宽线距(L/S)的曝光能力,可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰

而曝光28.8纳米的独立线条,仍可以获得非常高精度的曝光图案

不愧是老牌子,质量杠杠滴,上一个也是买的先锋,用了快十年,还能继续用,这次再买个新的,速度不稳定,忽快忽慢的,但是快起来的时候真快

当然,作为实验性工具,MET也是在不断发展的,第一代MET工具NA0.3的数值孔径,对应于ASML的第一代NA0.33 EUV光刻机;第二代MET工具具有NA0.5的数值孔径,对应于ASML的第二代NA0.55EUV光刻机

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