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光刻机_雕刻机_曝光系统

生存压力下,二手光刻机进口代理

生存压力

再是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机,绕开了ASML的EUV光刻机,并且将先进工艺提升到0.768纳米,这意味着美国芯片企业未来可能不再采购ASML的EUV光刻机,这更是要了ASML的命根,毕竟光刻机业务就是ASML的根本

ASML向中国交付光刻机可能仅仅是开始,因为ASML已表示将在未来两三年将EUV光刻机产能扩张到90台,DUV光刻机产能扩张到600台,大规模扩张光刻机产能瞄准的客户除了中国恐怕再无其他,可以预期ASML未来必然会加大对中国出售光刻机的力度,不会再看美国的脸色

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先是美国芯片企业美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺,这项工艺比采用EUV光刻机降低了六成的成本存储密度、功耗等指标也更优秀

更让ASML忧心的是全球芯片行业的变化,全球芯片行业已从过去两年的火热迅速陷入冰点,最大的EUV光刻机采购客户台积电已关闭部分EUV光刻机,甚至还将部分EUV光刻机从中国台湾转运至美国的5nm工厂

三星的3nm工厂已经量产,Intel的Intel 4工厂也已完成设备进驻,台积电、三星和Intel这三大客户都已没大规模采购EUV光刻机的可能性,如今美国芯片企业又显示出抛弃ASML的EUV光刻机的迹象,让ASML开始担忧未来的出路

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在全球芯片行业陷入停滞的时候,仅剩下中国市场可能仍然会大规模扩张芯片产能的市场,中国希望到2025年实现七成芯片自给率,而目前才达到三成左右,意味着中国至少还得再将芯片产能提升一倍以上,这说明中国市场将需要继续大规模采购光刻机

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