High-NA EUV 是下一代光刻设备,与现有的 EUV 光刻设备相比,可以雕刻出更精细的电路,其被认为是一个改变游戏规则的设备,将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家
High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币),是现有 EUV 光刻设备的两倍
干涉仪 光刻机
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IT之家 7 月 20 日消息,光刻机巨头阿斯麦 ASML 今日公布了第二季度财务数据
ASML 表示,净利润较高的原因是新订单量创历史新高,因为尽管有迹象表明销售放缓,但该公司仍在尽可能快地向客户运送设备
根据路孚特数据,ASML 第二季度收入超过分析师预期的 52.8 亿欧元,而利润低于预期的 14.4 亿欧元
ASML 公告称,截至 6 月 30 日的三个月,公司收入为 54.3 亿欧元(约 374.67 亿元人民币),高于 2021 年同期的 40 亿欧元;净利润为 14.1 亿欧元(约 97.29 亿元人民币),高于去年同期的 10.4 亿欧元
外观非常轻薄小巧,颜色是经典的磨砂黑色,手感观感都还不错。产品外包装中规中矩,上开式的打开方式很特别,还有很人性化的防锁死按钮,整体设计很到位。读盘声音安静,读写速度目前还没有特别感觉,使用后再来追评。
ASML 表示,利润率受到了通胀成本上升的影响,此外,一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货,导致了延迟确认收入,从而影响了收益
IT之家了解到,ASML 主导着光刻系统市场,客户包括所有主要芯片制造商,其中台积电、三星和英特尔是几大重要客户
ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示:“一些客户在某些消费者驱动的细分市场中显示出需求放缓的迹象,但我们仍然看到对我们系统的强劲需求
虽然我们仍计划在今年交付创纪录数量的系统,但供应链限制的增加导致出现了延迟
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ASML 下一代 EUV 光刻机启动:单价 26 亿元
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