芯片作为一种高度集成化的科技产物，能以很小的体积运行天文数量的晶体管，用中国古话来讲，就是螺蛳壳里做道场
光刻机启动后，会发射紫外线去除晶圆表面的保护膜，再将电路图形精准投射到晶圆上，以制造出符合芯片需求的图形区域
而这恰恰是工业发展历史不长国家的命门，也是目前我国暂时造不出真正先进水平光刻机的真实原因
光刻机与原子弹，谁更难？说到这里，有人不禁要问，中国曾在一穷二白的时期，独立研发过原子弹，为什么就是研制不出好的光刻机？其实，原子弹这样开创新技术的装备，研究的重点在于搞清楚原理
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尤其是光刻机从DUV迭代到EUV后，加工精度更加夸张，对中国的光刻机制造单位而言，突破精度的技术壁垒，比登天还难
哪怕是我们有幸得到了最先进的EUV光刻机实物，也因为达不到相同的加工精度而无法国产
读盘速度：很快 读盘声音：很小，几乎听不到声音 稳定性能：性能稳定 轻薄程度：与台式机配套合适 外形外观：精緻 产品包装：严实无破损。
制造光刻机太难了
光驱很漂亮，启动的声音很小，弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度：很快读盘声音：声音小，几乎听不到产品包装：精美
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反射镜同样是EUV光刻机上的重要一环，能够达到光刻机要求的多层膜反射镜，目前只有德国老牌镜头制造厂家蔡司能够拿出来，这一产品也安装在了ASML家最新研制的光刻机上，以实现EUV波段的高反效率
除了上述两个关键子系统，光刻机的工作台也为制造者提供了难度极高的挑战
中国光刻机侵液系统
目前荷日的光刻机都采用的固定操作台，对于这样一个精密机器，工作台也需要做到极高的精度，EUV光刻机采用高精度激光干涉仪，以便降低光刻机的位移干扰