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然而在EUV光刻机面世之前,一直都是使用的DUV光刻机,使用的是短波紫外线,突破到极紫外线,一共花费了20年的时间才完成,可见对于光源的选择使用,其的难度是非常大的,没有捷径可走
2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具,然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术
就说光刻机,在2,30年前技术还处于粗糙的阶段,如今的发展进入了高精端的领域,那么再经过5.60年,再看向光刻机技术,是否又会觉得这是一件普通到常见的技术了呢?不论是从领域还是从难度等问题,都没有可比性,也没有意义,要说难,那都是难造的
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第二次购买了,这次选择黑色区分一下,刻录出来的光盘很好没有问题。比传统光驱短,占用空间少,不错!非常喜欢
全球仅荷兰能造高端光刻机
光刻机的上游
那么将这个极限制造出来的光刻机,有多难非常明显了,而每一纳米的突破,都是极其难得,阿斯麦尔温彼得甚至还表示,中国不太可能独立造出顶尖光刻机
要说最难的就是这3个点了
1、光源我们知道,目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了,而其使用的就是极紫外线,能够将光刻技术扩展到32nm以下
很好很满意,读碟流畅,之前买的华硕挺挑碟的,正版碟都读不出,这款棒棒的,刻录倒不常用,用移动硬盘多,暂时没有测试
EUV多层膜反射镜是光学系统当中重要的元件,有了这个反射镜的存在,才能够时间EUV波段的高反射率,且精度要求是非常高,精度越高的东西越难造,显然这个反射镜就不是一个容易造的
3、工作台在芯片制造当中,需要工作台进行配合,而在芯片制造当中,工作台移动来帮助芯片的纹路刻蚀,因此工作台移动的精度越高,那么制作出来的芯片精度也就越高
京东快递就是快,昨天晚上下单,第二天上午就到货了,已经安好了,试了一下非常满意。读盘很安静,几乎没有噪音。附送的软件很实用
当初我们原子弹制造是从0到1的跨越,万丈高楼平地起,而光刻机要说,其实是从1到2的进程,只是目前我们没有办法研制高端光刻机,因此我们要做的,就是将高端技术走向高精端,只是这个过程并不容易了
可是目前我们所能够知道的,高端的光刻机,比原子弹要极为稀有,这是不得不面对的事实
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