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光刻机_雕刻机_曝光系统

中微半导体在研发光刻机,1.2亿美金一台!EUV光刻机到底难在哪里?

是不是看起来,阿斯麦公司更像一个系统集成商?但是,如果想要组装一台光刻机,也不是随便哪个厂商能做到的

比如光刻机里的镜头,在组装过程中,为了达到仪器能够检测、分辨最小

需要将多达数十个光学镜面按照设计要求严格排列,每一个透镜的位置、姿态、间距都有严格的要求

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱,用着非常好,读盘快,刻录快,而且上翻盖很方便,拓展上方空间,不占平面位置,打开后安放和取出光盘也都很方便,不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个希望质量一如既往。

很好,正常使用中,这个品牌的技术过硬,用着放心,推荐大家购买。一直信赖先锋这个牌子,但现在的刻录机比以前的噪音要大,而且数据线也没有...

非常好,读碟很快,刻录速度快也很稳定,送货神速。好评!先锋刻录机,装进去马上能用。老品牌值得信赖!和我的酷冷至尊机箱很匹配

新开办公司,之前配置过四台,这一次配了一台全是办公高配的,物流快,发票齐全,自己组装价格质量也还放心,希望京东无假货!上个全图吧。组装花了两小时。一次点亮

读盘速度:十分快 读盘声音:小 稳定性能:十分不错 轻薄程度:刚刚好 外形外观:美观 产品包装:很好

而能达到要求的技师少之又少,连拥有175年历史蔡司,达到光刻机镜头生产标准的技师也仅有20人

目前,由蔡司生产的最新一代EUV光刻机反射镜,能够做到最大直径1.2米,面形精度峰谷值0.12纳米,表面粗糙度20皮米

这是什么概念呢?如果把镜头放大到地球那么大,它上面只允许有一根头发丝那样的凸起,这可能是宇宙中最光滑的人造物体了

中微半导体研发光刻机

而且同一个液滴需要在极端时间内被连续轰击两次,第一冲击是将它压平,第二次冲击是将它汽化,使之成为发光的等离子体,这样才能产生足够强度的极紫外

更重要的是,轰击所产生的光转瞬即逝,因此需要每秒钟轰击约五万次,才能保证光的持续性

1.2亿美金一台!EUV光刻机到底在哪里?

中微半导体在研发光刻机,1.2亿美金一台!EUV光刻机到底难在哪里?

别看转换效率不高,这已经是科学家们经过数次技术迭代,能够实现的最高水平

要知道最初的发光效率仅有0.8%

以上还仅仅是光刻机的镜头跟光源部分,还有其他许许多多复杂的零部件,而提供它们的供应商各个都是细分领域的绝对王者

为了让激光束能以极大的功率稳定传输,系统的复杂性可想而知

事实上,EUV的激光系统就有大约45万个零件,重约17吨,线缆长度超过 7000 米

其中高达20kW的二氧化碳激光器所需电源功率达到了200kW,但即使这样,它的最终效率也才只有5.5%

读盘速度:读速很快 读盘声音:一般情况下,声音较轻 稳定性能:稳定性高 轻薄程度:大小合适 外形外观:外观美观 产品包装:包装精美,质量可靠

?直接从主机前面的口插进去的,插上线,开机放碟,立马就可以用了。很快。目前没什么问题。

读盘速度:非常好 产品包装:简单便捷 外形外观:大气耐看 读盘声音:还可以 稳定性能:新的

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