使得自身的科研进度逐步减缓,以至于中国的集成电路在科研、教育等方面出现脱节,自主研发的道路越走越窄
取而代之的是数以万千的廉价劳动力,尽管后来尽力去跟进研发,但由于自身发展原因加上大环境影响,导致曾经辉煌一时的半导体盛景已然成为“泡沫”
科技基金含光刻机
很好,经过测试质量很好,刻录光盘很快。刻录稳定,一直很多年都在用先锋的,没有问题!非常满意
读盘速度:先锋存储名不虚传啊,原来用的也是先锋的,用了有10年,终于退休了 读盘声音:声音很小,几乎听不到 稳定性能:稳定性超强,刻录CD非常快,音质也超棒 轻薄程度:外置光驱吗,都一样薄厚,没有太厚的 外形外观:外观就是比原来的降了档次,原来的机器都是金属外壳,现在的是工程PVC的,更轻一些 产品包装:产品包装结实,原封装,没动过,全新
注:图片来自仪器信息网 然而自主研发光刻机并非想象中那么简单
据数据显示,制造一台光刻机的精密零件需求为数万颗,而世界目前最先进的极紫外EVU光刻机则需要零件多达十多万
如此多的数目以及极其精密的数据要求,就成为了光刻机最根本的需求基础,因此传统的制造基础便成为了光刻机技术突破的基础产业要求之一
中国离7nm光刻机还有多远?
质量非常好,与描述的完全一致,非常满意,真的很喜欢,完全超出期望值,发货速度非常快,包装非常仔细、严实,服务态度很好,运送速度很快,很满意的N次购物
基础实力差,加上外国这样的“绊脚石”,让中国不得不主张自行研发
1977年,历经10年之久的中国经过自己的不懈努力,上海光学机械厂成功制造出JKG-3型接触式半自动光刻机
这也代表着此时的中国半导体产业正在紧跟外国的科技发展步伐,然而真正距离美国制造出的光刻机已经相差近二十年,并且就在同年,美国再次推出了真正的自动化光刻机
后来的中国通过老一辈的科研工作者努力,正在一切向着前进的方向发展,然而本以为将会顺利发展、步入快车道的中国光科技产业,在1984年遭遇了“中断”
伴随着日后光刻机市场霸主ASML的诞生而打破,并且随着中国重视重心逐步趋向于其他行业,中国在80年代底,开始主张“造不如买”的政策
这也代表着中国由于自身原因遭遇第二次“卡脖”
历时20年之久,中国光刻机技术一直卡在193nm无法突破,中国随着发展也逐渐认识到半导体产业的重要性,开始探讨突破193nm的方法
而此时的ASML却已经开始了EUV光刻机的研发工作,并且成功在2010年正式研发出第一台EVU原型机
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很好很满意,读碟流畅,之前买的华硕挺挑碟的,正版碟都读不出,这款棒棒的,刻录倒不常用,用移动硬盘多,暂时没有测试
读盘速度:速度还是相当快的,大概2秒左右。 读盘声音:声音很小,主要是用来放音乐?的。 稳定性能:性能指标还可以,支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度:大小刚刚好,能放在光驱位,要螺丝固定。 外形外观:外观很别致,很简洁。 产品包装:包装盒完好,还送了数据线。