而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
那么能不能四次曝光，五次曝光，将精度提升上去？事实上，在实际使用中，2次曝光就已经很厉害了，像ASML等的光刻机 ，大多也只是进行2次曝光
其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产
而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机
先锋外置刻录机很快到货，还没试用。以前买过好几台先锋光驱和刻录机，挺好用。不是第一次买了，这个品牌真是刻录机中的第一品牌，上一个用了5年，终于到年头可以换了，好用的很！好评！
发货速度快，包装严实，刻录机做工很精致，装上很好用，就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱，完美安装上后，开机自动识别，无需任何操作（win7）
光刻机等皇冠上明珠
读写速度快，很好用，读写速度快，质量好，价格实惠，物流快，非常满意的一次购物。
挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高
很好，已经第二次购买，能写入dvd-ram，数据安全有保障。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 值得信赖 好评五星
“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机，因为它必不可少，同时光刻机的好坏，精度，决定了芯片的精度、良率等等
不过大家也清楚，光刻机目前全球只有4家厂商能够生产，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子，ASML是荷兰企业，尼康、佳能是日本企业，而上海微电子是中国企业
因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些
所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看
不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等
读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。
先锋大品牌老品牌值得信赖，买来用于替换原来的普通DVD光驱，复盘速度很灵敏，刻录一张8GB的光盘最多八分钟，而且读写声音很小很稳定，非常满意.
究竟能制造多少纳米的芯片?
