当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了
DSA光刻，目前没有一定特定的厂商在下注，就像佳能对于NIL技术一样
但如下图所示，在NIL、EUV、DSA三大光刻机上，巨头们都早已布局了
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读盘速度：很快 读盘声音：不大 稳定性能：很稳定 轻薄程度：合适 外形外观：完好 产品包装：结实
读盘速度：非常快也非常的有效率 读盘声音：基本听不到什么声音，非常安静，掉根针都能听到针的声音 稳定性能：即插即用，放进光碟就能读到想要的内容，非常的值得拥有 轻薄程度：材料用的非常好，又薄又轻方便携带使用 外形外观：黑金刚好看最主要大家都知道，耐脏，本人比较懒。
物流很快，买完第二天就到了，现在已经刻了快50张光盘，无一失败，就是不知道能用多久，希望能多用几年
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现在这年代还在用光驱的不多了吧，连机箱也没几个说特意有留位置的，要么就是复古机箱，非常难看……至于光驱还是信赖老牌子，用先锋我是很放心的！
这对于一般的晶圆企业而言，是不可承受的成本，所以一直以来，业界都探讨EUV光刻机的替代方案
目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种，分别是1、纳米压印光刻（NIL）；2、直接自组装（DSA）光刻；3、电子束光刻（EBL）
而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA
蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0
众所周知，在当前的芯片制造环节中，光刻是其中一个必不可少的重要环节
而光刻就需要用到光刻机，而7nm及以下芯片的光刻时，就需要用到EUV光刻机
同时EUV光刻机成本非常高，一台EUV光刻机售价超过10亿元，最新的0.55数值孔径的EUV光刻机，价格更是超过3亿美元（20亿元）
EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造
而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先
国产光刻机强势来临
3种替代方案
很好，轻薄，声音也小，速度不错，还没有拆开用，现在计算机配光驱的不多了，买个外置的特殊场合备用，很是不错