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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机巨头阿斯麦CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻机,国产9纳米光刻机样机

物流很快,买完第二天就到了,现在已经刻了快50张光盘,无一失败,就是不知道能用多久希望能多用几年

国产9纳米光刻机样机

光刻机巨头阿斯麦CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻机,国产9纳米光刻机样机

先锋光刻录机非常好,物美价廉,很实用,物超所值,质量还是不错的,刻录很方便,三步就像U盘一样,直接拖拽就可以刻录了,不需要非常麻烦的操作,也不需要下载刻录软件,而且可试用的光盘范围比较宽广

之前自己有一个黑色的,用着不错,就照样子又买了一个,黑白双煞。物流很快,基本上下单后第2天到货,产品用起来也很方便,不需要安装刻录软件。

颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心

读盘速度:很快很强 读盘声音:比较轻 稳定性能:性能稳定可靠,容错能力强 外形外观:很好看 轻薄程度:适中 产品包装:精致

CINNO Research半导体事业部总经理Elvis Hsu在接受观察者网采访时表示,光刻机是半导制造设备价格占比最高的部分约25-30%,其研发难点在于曝光光源对准系统和透光镜头等技术的整合,以及庞大资金投入

期内,该公司共出货82台光刻系统,环比上季度增加3台;其中EUV光刻系统11台,比上个季度减少4台;在所有出货中,73%光刻机被用于逻辑工艺制造,27%的光刻机用于存储芯片生产

2021年三季度,美国和日本分别在阿斯麦出货中占比10%和1%,但四季度占比均意外降为0,具体原因尚不清楚

阿斯麦光刻机出货信息 过去几年,阿斯麦一直在研发高数值孔径(0.55 NA)EUV光刻机

这种EUV光刻机采用最新光学设计,具有更高的分辨率(由13nm升级到8nm),可以使芯片面积缩小1.7倍,晶体管密度增加2.9倍

光刻机巨头阿斯麦CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻机

阿斯麦NXE3400型EUV光刻机(0.33 NA) 图源:阿斯麦官网 在本次披露财报时,阿斯麦透露,该公司在2021年四季度收到一份TWINSCAN EXE:5000光刻机订单,累计订单达到5份

与此同时,该公司还在2022年初收到下一代高数值孔径EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200的首份订单,下单的还是英特尔

商品质量不错,物流也很快,好评。满意,静音,速度快,稳定。非常满意

他提到,2021年四季度,阿斯麦存储器芯片用光刻机营收占比环比下滑12个百分点,同期确认收入的EUV也低于原预期,或许是韩国三星、海力士因为DRAM(动态随机存储器)合约价格下滑,要求延迟付EUV的款项给阿斯麦

读盘速度:一如既往的快 读盘声音:一如既往的的轻 轻薄程度:比老款略缩短1CM 外形外观:中规中矩的四方 稳定性能:读写很稳定 产品包装:比之老款,包装略简单,且无NERO光盘附赠。

读盘速度:快 读盘声音:不大 稳定性能:稳定 轻薄程度:标准 外形外观:好 产品包装:很好

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