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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产光刻机前景,不黑不吹

买了三个光驱,反馈都很不错,声音小,噪声小,刻盘的速度很快,跟之前的光驱比的确不是一个档次,之前光驱识别光盘都很困难,这个很快就能识别出来,真的是大赞。京东速度还是一如既往地快,让人赞不绝口,以后还是继续支持京东?

以前一直用三星先锋也是大品牌,据说造假很厉害,信赖京东自营,这次试试。光驱对我来说是必备硬件,仁者见仁智者见智,有人习惯了U盘,某些特殊情况下,还是光驱方便。读盘速度很快,噪音也不大,做工和三星一样精细,目前用着很稳定,产品包装也比较到位。背面还有好几处防伪的刻字。很不错的一款产品。

而前道工序更是重点,有至少8个工序,分别是扩散、薄膜沉积、光刻刻蚀离子注入、CMP抛光、金属化、测试

而这里也要用到各种设备,众多的材料光刻机只是其中的一种设备,这些设备大多和光刻机一样,是有精度要求的,分别要求达到7nm

不黑不吹

芯片制造是一个非常复杂的流程涉及到几十种设备,上百道工序,主要可以分为单晶硅片制造、前道工序、后道工序这三部分

单晶硅片涉及到各种半导体材料,目前国内整体半导体材料的自给率不足20%,特别是14nm以下的半导体材料自给率就更低,高度依赖国外进口

国产光刻机前景

综合起来看,要想芯片制造水平达到7nm,需要EDA支持7nm,半导体材料也是支持7nm,半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备,就算我们突破了,美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们,因为目前国产的半导体材料、半导体设备,很多在28nm甚至更成熟的工艺,达到7nm的少之又少

按照机构数据,2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+,所以我们现在的重点不是先进工艺,而是全产业国产化率,同时提升产能,先满足国内成熟工艺的需求,先解决了这些问题,再向先进工艺前进,这样才走得稳健

即插即用,免包装程序,方便实用。刻录速度很快,1g大约8分钟?(¯﹃¯?)~~外观大气简约瘦小,生产日期今年8月~~

收到就试了一下,稳得一批啊,声音也很小。读盘速度:挺快读盘声音:挺小稳定性能:很稳轻薄程度:刚好外形外观:美丽产品包装:简单安全

国产光刻机前景,不黑不吹

读写速度快,很好用,读写速度快,质量好,价格实惠,物流快,非常满意的一次购物。

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱,用着非常好,读盘快,刻录快,而且上翻盖很方便,拓展上方空间,不占平面位置,打开后安放和取出光盘也都很方便,不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个希望质量一如既往。

还有一些材料,也需要达到7nm,比如光刻胶,7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶,但我们自给率为0

后道工序,这里主要涉及到的是封测,相对要求会低一些,但也是有工艺精度要求的

目前仅是EUV光刻机卡得最为明显,卡得最为关键,最为大家所知而已,并不意味着其它设备或材料不卡了,一旦EUV光刻机我们有了,美国在其它设备或材料上就会卡住我们的

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