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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产光刻机的局限,极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年

送货非常快,上次买了刻录光盘,这次配套购买刻录机,先锋经典老品牌,支持DVD/CD读写,是数据备份,影音,学习的好帮手。

很显然,这两次迭代,将使得摩尔定律被延长至2032年

中文舆论里,前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机;后者便是所谓“7nm”光刻机

半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里,国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器,因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产阶段

比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展

先锋的刻录机用过两台了,第一款是DVD刻录机用了好多年,后来升级成蓝光刻录机已经用了6年,刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定,现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

国产光刻机的局限,极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年

已经收到货了,开箱后使用了几天才来评价质量不错,读碟快速度,刻录光盘刻录一部超清电影,播放出来,何蓝光碟差不了多少,反复刷两次光盘都一样没变化,打开之后第一感觉就是非常喜欢外观时尚大方,价钱也实惠,性价比高,装上之后车试一下,读碟很好,刻录光盘也很好,很流畅,非常愉快的一次购物,京东真的很不错,下次还会推荐朋友们过来购买

这款光源对应上图的位置是1994年

当然,我们不能把1994年当作技术差距的时间点

例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节;亦即达到193nm浸没式光刻水平,那么对应上图的位置是2005年左右

京东的物流很快,主板的质感很好,感觉的出来做工很精良,目前还没有装机,一直用先锋刻录机很好

国产光刻机的局限

运输速度快,商品保存完好,没有损坏!商品质量好,货真价实!使用方便,方便简洁!产品易于操作!快递小哥工作很到位,送到家里,还放好了地方!

京东快递,一如既往的质量保障,送货速度快,快递员态度好,继续支持。已试过,静音速度快,这是我第一个外置光刻一体光驱,真心不错,值得推荐

编者按:公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻,可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差,有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

孩子幼儿园有很多光盘发下来,笔记本又没配备光驱。网上一搜,外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌,图省心,毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题,连上笔记本就能用。希望能一直用下去。

同样,根据2021年3月的公开记录而言,可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力

因此需要重新调整大专项的目标和组织模式,以产业发展的基础技术储备作为重点攻关,而不是致力于我前文所述的“复制制造开发”模式

2,在未来十年的新技术上,目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究;这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势

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