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光刻机_雕刻机_曝光系统

真的是难……,高端euv光刻机制造很难吗

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  人的潜力,在中国第一代光刻机从业者身上发挥到极致

  没有资料,只能靠自己摸索,徐端颐和团队成员边干边学,没日没夜地加班攻关,终于在1980年造出国内第一台投影光刻

  1985年,中科院45所在光刻机领域取得了重大进展研制出分步投影式光刻机,被认定达到了1978年美国GCA公司推出的光刻机水准

但国内仍停留在接触式光刻机时代

  落后就要挨打,深深地刻在一代人的印记里,得到消息的中国决心奋起直追

  1977年,在江苏吴县(今苏州吴中区),专门开了一场光刻机技术座谈会,与会的67名代表指出:光刻设备工艺极为重要,要提高光刻机技术,让中国半导体设备赶超世界先进水平

上海微电子披露:有望在2022年交付一台28nm工艺国产光刻机

尽管这和7nm、5nm仍隔着数代距离,但是差距已经大大缩小

  回想新中国成立之初,一没资金、二没产业基础,三没人才储备,国产光刻机愣是做到了紧跟世界先进水平

真的是难……,高端euv光刻机制造很难吗

真的是难……

  此后的二三十年,这种现实愈演愈烈,中国光刻机对外的差距,也越来越大

  【2】蹉跎岁月  1977年7月,邓小平邀请30位科技界代表在人民大会堂召开座谈会

  在那场座谈会上,中国半导体灵魂人物王守武说得很直接:  “全国共有600多家半导体生产工厂一年生产的集成电路总量,只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一

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高端euv光刻机制造很难

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  2007年,上海微电子宣布研制出90nm工艺的分布式投影光刻机

由于这台机器大部分元器件国外的,西方国家立即实行了禁运

辛苦研制的光刻机,迟迟无法量产又成为了摆设

  2008年,国家又成立“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”(02专项)

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