2005年美国加州劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具因此，从这一非常具体的实例来作为比较，并且只从曝光工具的单一指标（我们忽略系统性工作能力、技术储备、制造工具储备等）而言，我们在2017年的02专项极紫外曝光光学的验收成果，接近2005年劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具的曝光线宽
全世界最好的光刻机
读盘速度：很快很强 读盘声音：比较轻 稳定性能：性能稳定可靠，容错能力强 外形外观：很好看 轻薄程度：适中 产品包装：精致
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源
读盘速度：快， 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻 稳定性能：目前使用稳定性好 产品包装：包装精致
极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前，有必要回顾EUV光刻机发展历史，简而言之，在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里，有4个里程碑的阶段，包括：1，2003年之前的两镜头曝光装置（MET）；2，2006年的六镜头EUV演示工具（ADT）；3，2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机；4，明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机
第一次买刻录机，担心尺寸和电脑不符，买回来可以装，很高兴，质量很好，京东的客服人员也非常好，遇到问题还亲自打电话过来帮我解答，让我没有后顾之忧，有一些不懂还要继续学习，性价比很不错，是正品，包装也很结实。 稳定性能：好 产品包装：好 外形外观：好
王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果，展示了30nm和25nm的等线宽线距（L/S）的曝光能力，可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰
而曝光28.8纳米的独立线条，仍可以获得非常高精度的曝光图案
刻录机一直买先锋，刻盘成功率高，废盘很少，买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气，做工很好，使用也非常好，读取刻录都很棒，还没刻过坏盘！
曝光系统被置于真空罩中
在这个系统里，最核心的投影光学部分（MET projection optic）主要涉及超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等关键技术，而这些也是长春光机所02专项的核心工作
挺不错的，物美价廉到货快，之前在京东买过两台同款的，确实很不错，这次趁活动再买三台囤着备用，还未启用。虽然说CD DVD刻录技术早已成熟，然而自从以前的先锋115CH刻录速度变慢以后（没飞过盘，只是刻录速度变慢），实体店买过两台某星的，那真是一塌糊涂，各种飞盘，刻录出来的数据面颜色都不均匀，也很难读取，没用几次就弃用了。之后看到京东自营有先锋的了，就买回先锋的，就这款，刻录声音很小，出盘的质量很高。虽然价格比以前便宜了，但质量确实没有缩水，这里面可能也是存在一点黑科技的。挺好的，应该还会再买。