除了设备过于昂贵之外,EUV光刻机的耗电量也是剧增,据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%,如果引入第二代EUV光刻机,预计耗电量将进一步上涨,不知中国台湾能否撑得住,昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受,这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵
早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统,它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光,而采用了电子束(EBA)刻印电路,精度远超采用极紫外线的EUV光刻机,工艺制程可以达到0.768nm,这对于ASML更是重大打击
无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺,显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖,其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此,它们甚至在挖ASML的根
买回来当CD机用,非常好用,音质很好,先锋光驱不错哦,高颜值,高品质,非常好,一分钱一分货,材质外观和质量一看就很上档次,非常喜欢
在东京买原装正品未拆封,好东西非常方便就开始使用了,外观也漂亮,轻薄设计、金属外壳黑色烤漆,看着就喜欢。 读盘速度:正常 读盘声音:轻 稳定性能:刚刚才用,感觉蛮稳定的 轻薄程度:轻薄设计,感觉舒服 外形外观:有金属感,漂亮 产品包装:完整、原装正品未拆封
上海微电子22纳米光刻机
日本研发5nm取得重大进展
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京东快递真快,为什么没塑封,是消毒吗,made in china。外表完好,一会儿试试吧,非常轻,都1000多了,AC适配器也不给一个
自打U盘流行,硬盘容量大了之后,光驱就离我们越来越远了,刻录机也不例外,现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐,而CD正是最好的载体,所以空着多年的光驱位又要启用了,当日下单次日即收到,趁孩子睡午觉立即刻了两张盘,刻录能支持最大速度,但我用的是最低速度来,一张CD刻好也只需十来分钟,刻好立即回放读碟,效果棒棒的,这光驱不管读还是读都叫我满意!
日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺,此前已被铠侠用于存储芯片生产,此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm,到去年底日本已将该工艺突破10nm,到如今不到1年时间又突破到5nm,可谓进展神速
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正是由于成本问题,日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺,降低成本
此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机,今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售,然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机,将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务