制造光刻机为何这么难
国产9纳米光刻机样机
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那么将这个极限制造出来的光刻机，有多难非常明显了，而每一纳米的突破，都是极其难得，阿斯麦尔温彼得甚至还表示，中国不太可能独立造出顶尖光刻机
要说最难的就是这3个点了
1、光源我们知道，目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了，而其使用的就是极紫外线，能够将光刻技术扩展到32nm以下
EUV多层膜反射镜是光学系统当中重要的元件，有了这个反射镜的存在，才能够时间EUV波段的高反射率，且精度要求是非常高，精度越高的东西越难造，显然这个反射镜就不是一个容易造的
3、工作台在芯片制造当中，需要工作台进行配合，而在芯片制造当中，工作台移动来帮助芯片的纹路刻蚀，因此工作台移动的精度越高，那么制作出来的芯片精度也就越高
当初我们原子弹制造是从0到1的跨越，万丈高楼平地起，而光刻机要说，其实是从1到2的进程，只是目前我们没有办法研制高端光刻机，因此我们要做的，就是将高端技术走向高精端，只是这个过程并不容易了
可是目前我们所能够知道的，高端的光刻机，比原子弹要极为稀有，这是不得不面对的事实
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然而要说到能够制造光刻机的国家，那还是能数上几个的，可要说高端光刻机，要严格来说，那就只有荷兰了，根据数据显示，荷兰ASML公司是真正的全球光刻机龙头老大，以一家之力，占据全球91%的市场份额，足以可见其的实力有多强，虽然其的核心技术还主要属于美国和德国，但是真的是非常了不起了
就说光刻机，在2，30年前技术还处于粗糙的阶段，如今的发展进入了高精端的领域，那么再经过5.60年，再看向光刻机技术，是否又会觉得这是一件普通到常见的技术了呢？不论是从领域还是从难度等问题，都没有可比性，也没有意义，要说难，那都是难造的