彼得・维尼克说得很对
近期，世界半导体行业传出多条重磅消息，直接验证了彼得・维尼克的预言，EUV光刻机时代开始“落幕”！首先，即将成为“美积电”的台积电牵头成立了“3D Fabric”联盟，大力发展3D封装技术
据美媒报道的信息显示，美国芯片巨头AMD利用台积电的3D封装工艺，在没有EUV光刻机的情况下，量产了一款GPU芯片，且性能较之上一代提升35％，功耗降低20％
老美对于EUV光刻机近乎歇斯底里的管控，引起了ASML公司的极度不满，该公司CEO彼得・维尼克曾多次向老美发出警告：如果不卖给中国EUV光刻机，用不了几年，中国人就会找到有效地解决方案，拉下EUV光刻机时代的帷幕
值得一提的是，我国封测巨头通富微电掌握了世界领先的5nm“芯粒”技术，英伟达等多家美企为了降低“芯片禁令”的影响，直接与5nm通富微电签署了长达几年的合同
第三，华为等国内多家科技巨头发布了量子芯片技术，国内首条光子芯片生产线明年即将实现规模量产，加速了“下一代芯片”的商用
天津光刻机是什么感谢来电
我国之所以迟迟无法独自制造出高端芯片，主要还是EUV光刻机被卡了脖子
在光刻机领域，荷兰ASML公司拥有着绝对的话语权，垄断着全球EUV光刻机市场，决定着台积电、三星、英特尔等芯片制造企业高端芯片的走向
据公开数据显示，ASML公司所制造的EUV光刻机所使用的美国技术和元器件的比例高达30％，也正是因为这个原因，老美才有了挟“人类智慧的结晶”令世界“芯片”的实力和底气
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其次，美光绕开EUV光刻机制造出了能效提升25%、存储密度提升30%、功耗降低20%的高性能DRAM芯片，日本佳能、铠侠联手成功研制出纳米压印微影（NIL）工艺技术，将高端芯片的制造成本降低了40%左右
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